Tehnologii cu procesare fototermica rapida pentru dispozitive microelectronice. Monografie

CUPRINS

Prefata 3
Introducere 4
Lista abrevierilor 13

1. BAZELE FIZICO-TEORETICE ALE TEHNOLOGIEI CU PROCESARE FOTOTERMICA RAPIDA SI DIFUZIE STIMULATA DE FOTONI SI RADIATIE 15

2. TEHNOLOGIE CU PROCESAREA FOTOTERMICA RAPIDA (PFTR) SI DIFUZIE STIMULATA PENTRU DISPOZITIVE CU JONCTIUNI DIN Si 49

3. TEHNOLOGII MIXTE CU PFTR, DIFUZIE STIMULATA, IMPLANTARE IONICA SI RADIATIE PENTRU DISPOZITIVE DIN GaAs, InP 83

4. TEHNOLOGII MIXTE CU PFTR, RADIATIE SI IMPLANTARE IONICA PENTRU MICROSTRUCTURI MOS – ZrO2/Si, HfO2/Si, Al2O3/Si), SiO2/Si 112

5. NANOTEHNOLOGII CU PFTR SI RADIATIE PENTRU MATERIALE NANOSTRUCTURATE SI DISPOZITIVE IN BAZA LOR – SiO2(Ge)/Si, ZnO/Si Cu2O/Si, TiO2/Si), CuPc/TiO2/ITO, ClAlPc/TiO2/ITO 163

Bibliografie 235